HyperLith シミュレータ


特長

リソグラフィシミュレータ HyperLith™

使い勝手のよいリソグラフィシミュレータ、HyperLith

 

  • ● 使いやすく、柔軟且つ強力
  • ● 予め設定したテンプレートにより結果がすぐに得られる
  • ● ハードウェア加速処理、並列処理、分散処理で高速化
  • ● 32/64ビットのWindowsとLinuxをサポート
  • ● マスクパターンのテンプレート、レジストモデルのカスタマイズ、お客様ご自身による簡単なパターン作成機能
  • ● 直観的なGUI入力、 ステッパーでのリソグラフィシミュレーションに特化
  • ● LiveView GUIで通常ケースでの概算シミュレーション結果がすばやく見れる
  • ● DUV、液浸、EUV、厳密解/スカラー計算、偏光、収差、レジスト技術に対応
  • ● SEMのシミュレーションができる(オプション)
  • ● デモ動画、詳細はここをクリックしてください。here

チップ全体のシミュレーションFullChip
FullChip™

FullChipは、チップ全体をシミュレーションするためのプラットフォームです。

  • ● 高速SOCSを基とした空間像計算
  • ● コンパクトなレジストモデル(輪郭を元とした較正)
  • ● 3Dマスク効果(M3D)
  • ● 複数の同時クライアントをサポートする大型レイアウトサーバー
  • ● ホットスポットの検出 / 検証 / OPC
  • ● 開発中-詳細はリンク先のプレゼンテーションとビデオをご覧ください FullChip

新たな3D EMFシミュレータ
TRIG™

TRIGは、EUVおよびDUV向けに新たに開発された高速、厳密、高精度な3Dマックスウェルソルバーです。


  • Panoramic v7での 新しい機能

    新らしいバージョン7(v7)では、高度なリソグラフィシミュレーションについて、一段上の性能を実現しました。

    • ● 新たに高速且つ厳密な3Dマックスウェルシミュレータ:TRIG
    • ● TEMPESTpr2向けのサブグリッド分解能機能
    • ● SEMシミュレータ:PanSEM
    • ● SEMイメージアナライザー:PanSIA
    • ● ソース最適化:PanSO
    • ● RCWAの高速化
    • ● レジストの3D FEMモデリングの高速化・厳密化
    • ● 縮み
    • ● NTDレジストモデル
    • ● EUVおよびDUV向けの確率的レジストモデル
    • その他多くの改良点があります

  • NTDレジストモデル

    • ● ネガティブトーン現像(NTD)レジストモデル
    • ● レジストオプションを含みます
    • ● 脱保護による収縮の3D FEMモデリング
    • ● 動画をご覧ください
    • ● プレゼンテーションをご覧ください presentation 
      和訳presentation
  • SEM画像シミュレータ
    PanSEM™

     

    • ● SEM画像の形成をシミュレーションします
    • ● 物理学に基づくモデル
    • ● SEMにより発生する縮みを含みます
    • ● シミュレーションしたSEMのCDと実験的に測定したSEMのCDを比較すること(同一条件での比較)により、レジストモデルの較正を行います
    • ● PanSIAを含みます
    • ● 動画をご覧ください video
    • ● プレゼンテーションをご覧くださいpresentation 
      和訳presentation

    SEM画像アナライザー
    PanSIA™

    • ● SEM画像の解析
    • ● スタンドアロン(単体)のツールとしても、またはHyperLithと共に使うことも可能です
    • ● シミュレーションしたSEM画像と実際のSEM画像の両方の測定ができます
    • ● 同一条件でCDを比較することが可能
    • ● CDとLERボウサンカーブ(Bossungs)を生成(フィッティングで)
    • ● ローカルCDの均一性(LCDU)
    • ● 動画をご覧くださいvideo!
    • ● プレゼンテーションをご覧くださいpresentation 
      和訳presentation

    ソースの最適化
    PanSO™

    • ● 2つのソース最適化アルゴリズム(SO1 & SO2)
    • ● 使いやすい-GDSマルチサイトマスクパターンに直接組み込み
    • ● EUV、DUV共に厳密解マスクモデルの使用が可能
    • ● 複数のパターンに対して同時に最適化を行うことが可能
    • ● 動画をご覧ください video

    その他の詳細
    1. HyperLithシミュレータ HyperLith Simulator
    2. 先進のレジストモデル作成ツール(ARMI): PanTuneによるレジストキャリブレーション、ユーザー作成レジストモデル(User-Written Resist Models) Advanced Resist Modeling Infrastructure (ARMI): Resist Calibration with PanTune and User-Written Resist Models
    3.機能、オプション、デモ Features, Options & Demos
    4. H010 -プログラムしたパターンのGDSエクスポート(動画をご覧ください)H010 - GDS Export of Programmed Patterns (demo Video)

  • ARMI-先進のレジストモデル作成ツール
    ARMI™

    Panoramic Technologyはレジストモデリングに真剣に取り組んでいます。研究者の方々には、独自のレジストモデルを作成し、実験データに合わせてモデルを較正したいというニーズ、また情報の機密性を保ち、モデリングの専門知識を社外に流出させたくないというご要望があります。そういった声に応えるために、Panoramic Technologyは先進のレジストモデル作成ツール“Advanced Resist Modeling Infrastructure(ARMI)”を開発しました。

    • ● PanTune(TM)でレジストモデルを調整
    • ● UWRM APIを使って独自のレジストモデルを作成
  • HyperLithによるGDSエクスポート機能の改良

    この新たな機能によりシミュレーションが終わった一連のパターンをGDSファイルとしてエクスポートできるようになりました。これはテストマスクの作成に大変役立ちます。
  • 応用事例

    オプション

    Panoramic社のソフト