RESIST




RESISTの特長

  • ○コアのHyperLithパッケージとEM-Suiteパッケージは、空中像と画像をフィルムスタック上に生成します。通常は、これで十分なのですが、レジストの効果を見るためにレジストのモデル化をしたい場合があります。 Resistオプションは、ユーザーがこれを行うためのいくつかの方法を提供しています。
  • ○以下のレジストモデルがサポートされています:
    Diffused Image Model(拡散画像モデル):空中画像はblur(ぼかし)カーネルで畳み込まれ、閾値処理がされます
    Chemically Amplified Lumped Parameter model (CALPM)(化学増幅型集中定数モデル):化学増幅型レジストの高速近似モデル
    Full physics model(完全物理モデル):酸および塩基の拡散を制御するパラメータ、現像速度曲線などを含む完全なモデル
  • ○ソフトウェアには、一般的なレジストモデルのパラメータセットが付属しています。他社のシミュレータや実験データから得られたパラメータセットを使用する場合、Panoramic Techology社は無料でインポートするのを支援します。無料のレジスト調整サービスをご提供していますので、詳しくはお問い合わせください。