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リソグラフィ
シュミレータ
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リソグラフィシミュレータとは？
半導体のデバイスの発展は目覚ましいものがあります。身近なところでは、AIやセキューリティを推し進めるのに高性能で低電力のCPUが不可欠になっています。これを作るのにいかに回路を微細化するかが求められています。これにはリソグラフィ技術の高度化が必要で、マスクと呼ばれるパターンを使って光を照射し、感光材料であるレジストに微細な回路パターンを形成する技術です。弊社のPanoramicTechnology社のソフトウエアでリソグラフィ技術のシミュレーションができます。
リソグラフィシミュレータを使うと、実際の製造、材料開発、検査装置開発を行う前に、以下のようなことがわかります。
- 設計した回路パターンが実際に製造可能かどうか確認できます
- 製造条件を最適化することで、歩留まり（良品率）が向上できます
- 新しいリソグラフィ技術の開発ができます
- 実際のEUV露光機（何十億円から何百億円）を想定した開発ができます
- 検査装置の設計、開発ができます
リソグラフィシミュレータの仕組み
リソグラフィシミュレータは、以下の要素を考慮してシミュレーションを行います。
- 光源: 光の波長、強度、角度など
- マスク: パターンの形状、サイズ、材料など
- 光学系: 縮小率、開口数、焦点位置など
- レジスト: 感度、膜厚、材料など
- 現像: 濃度、時間、温度など
これらの要素を組み合わせることで、実際の製造に近い条件でシミュレーションを行うことができます。検査装置のシミュレーションも同様に行えます。
リソグラフィシミュレータの将来
リソグラフィシミュレータは、今後も半導体製造の重要なツールとして、ますます重要性を増していくと考えられます。
リソグラフィシミュレータの必要性
半導体デバイス製造は、微細な回路パターンを正確に形成することが求められます。リソグラフィシミュレータは、以下の課題を解決するために必要です。
- リソグラフィは複雑な工程であり、最適化すべき条件が多数あります
- 実際の製造を行うには、膨大な時間とコストがかかります
- 実験ではノイズにより、知りたい情報が得られないことがあります
- 将来技術の可能性を探索する必要があります
リソグラフィシミュレータの開発背景
Panoramic Technology社は1999年に設立され、最先端の半導体リソグラフィ用シミュレーションソフトウェアを開発し、世界的に販売しています。
同社の製品は、リソグラファーが半導体リソグラフィープロセスをシミュレートすることを可能にし、マスク、露光装置、ウェハ上のレジストをモデル化します。
同社の顧客には、世界中の大小の半導体メーカー、装置ベンダー、研究機関、新興企業、大学などが含まれます。同社は、最高のリソグラフィ研究シミュレーションソフトウェアを低価格で提供し、非常に迅速なカスタマーサービスを提供することを誇りとしています。
弊社は2001年より国内の代理店として同社製品を取り扱っています。