HyperLithとEM-Suiteとの比較



機能

  • HyperLithはステッパーでのリソグラフィシミュレーション"mask-in-stepper"に特化しています
● 以下は両方で同じ概念です
リソグラフィシミュレーションプログラムです
FDTD、スカラー計算でフォトマスクをモデル化します
液浸や偏光を含めた完全なベクトル空間イメージ計算を行います
ウエハー上の積層薄膜内の結像計算ができます
オプションでレジストの露光、PEB、現像のシミュレーションができます
GUIによる強力なバッチ処理ができます
● HyperLithだけの特長
マスクの形状、サイドウォールの容易な設定（SidewallAngle等）ドーズ、閾値、マスクサイズの自動入力
MEF（マスクエラーファクタ）の計算
マスクの自動測定
ボウサンカーブ（Bossungs）やプロセスウインドウなどの自動生成
ウエハー上でのトポグラフィ作成（ウエハー上のレジストの欠陥、ごみ等）
レジストパラメータの抽出
レジストモデル作成機能
SEM画像取込み、SEMCDシミュレーション

操作上の違い

  • ● EM-SuiteでもHyperLithと同様なシミュレーションがでますが設定が非常に複雑になることが多い。
  • ● HyperLithはステッパーでのマスク（"mask-in-stepper"）に特化しています。
    検査装置などのシミュレーション用にはEM-Suiteが適しています。
  • ● HyperLithの操作は大変簡単です。
  • ● HyperLithは、様々な機能を実現し変数などを自動的、簡単に入力し、必要な出力をあらかじめ設定してあり、プロセスウインドウなどすぐに結果が得られるように作られています。

EM-Suite/HyperLith応用事例

● EUV
 埋め込み積層ミラーの欠陥　 任意欠陥形状　 検査能力　 印刷能力
 EUV用OPC（小領域） 積層ミラー構造（PSM）
● 二重露光
 リソ-エッチング　リソ-エッチング　 側壁スペーサー　 ウェーハトポグラフィ効果
 非平面レジスト　 初回露光からの下地機能
● ArF/液浸
 レーザースペクトル帯域幅効果　  偏光効果　 液浸バブル 二重露光　  ウェーハトポグラフ
● 位相シフトマスク
 交互PSM：シフトされている開口部とされていない開口部の間の強度のアンバランス
 位相欠陥　  ウェットエッチング/二重トレンチ
 クロムなし位相リソグラフィ
 減衰位相シフトマスク
● レジスト
 脱保護による収縮のあるNTD
 SEMにより発生する縮みSEMにより発生する縮み　  EUVおよびDUVでのスカラ効果
 PEB拡散効果　 表面抑制　 温度効果　 側壁解析
 内側/外側角バイアス解析　 プルバック　トップロス
● DUVバイナリマスク
 OPCの検証　 ライン端の短縮化　 Iso高密度バイアス
● GDSII/レイアウト
 厳密解/スカラモデルに基づく小領域OPC 　 バイアス、円形化、高層化、結合、切り取り操作
 形状をインポート　 2Dパターンを3Dマスクに変換
● 積層膜解析
 BARC最適化 　 多層ミラー反射率　 レジスト厚効果
● その他
 アライメントマークシミュレーション マスク検査
 ウェーハ検査　  光波散乱計測　  格子解析（1D & 2D）

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