何よりはるかに多くの点で他社より優れています！
○ より早くーー社内プログラマ達は驚くべき才能を有し、瞬時に新機能を実現、展開することができます。彼らはコードについての裏と表を全て知り尽くしています。
○ より意欲的にーー小さな従業員所有型の企業であり、従業員のモチベーションは非常に高く、成功指向です。
○ より焦点化をーー大きな会社の小さな部署でもなく、機器やEDAソフトウェアを販売するわけでもありません。高度なリソグラフィの研究用シミュレーションソフトウェアに注力しており、それが全てです！

○ より小さく、より効率的に。換言すれば、質素です。
○ より良いビジネスモデルを持っています！

小さな独立した会社であり続けることが進むべき方向性であるーー広告等にはあまり費用をかけず、開発により多くの費用を費やしています。安易な利益追求に走らず、堅実で着実な成長を目指しています。急激に製品価格を引き上げたりせず、お客様に安定的かつ合理的な価格でご提供したいと願っています。今後も、より低価格で、より優れたシミュレータを提供していきます。

パノラミックテクノロジー社では10年以上に亘り、継続的にリソグラフィシミュレーションソフトウェアを改良し続けています。
常に技術の最前線に位置し、競合他社よりもいち早く新機能を実現し、常に一番であり続けています（EUV、液浸における偏光の問題、分散コンピューティング、ウェハートポグラフィ機能等）。 積極的な開発ペースを維持し、今後もリソグラフィ研究用シミュレータの完成度を上げ続けていきます。

短期的プラン

• ○ レジストモデリングインフラストラクチャ（ARMI）ーーユーザーによる高度なレジストモデル開発を"社内で行うこと"を可能にしています。
• ○ PanTuneーーレジストモデルパラメータのキャリブレーションのために使用することができる汎用チューナ。
• ○ ユーザ作成によるレジストモデル（UWRM）ーーユーザーが独自のレジストモデルをプログラムでき、EMSuite / HyperLithシミュレーションインフラストラクチャへ導入できます。（既存のレジストモデルと同等に動作します）
• ○ レジストモデリングの継続した研究ーー複数の顧客とレジスト値の設定で協力し、EUVおよびDUVレジストモデリングの問題の解決にあたっていいます。
• ○ HyperLithへの拡張されたSOAPIのAPI（MATLAB（TM）/Java（TM）のAPI）
• ○ HyperLithへのGazillionとPanOPCの統合、改善
• ○ アプリケーションの事例、トレーニング·ビデオ、ドキュメントの充実
• ○ ウェハートポグラフィ/ダブルパターニングの研究、モデリング、GUIの改善
• ○ EUV用"quasi-rigorous"マスクモデルの開発

長期的プラン

• ○ パワーと柔軟性におけるリードを維持
• ○ 技術の進歩に沿った新機能の組込み