先進のレジストモデル作成ツールAdvanced Resist Modeling Infrastructure (ARMI)



PanTuneによるレジストキャリブレーション
User-Written Resist Modelsでユーザモデル作成

Panoramic Technology Incはレジストのモデル化に努めてきました。 開発者がご自身がレジストモデルを作成し、 このモデルに実験データを合わせこむことが出来ます。 また、このデータなどを機密扱いとして、レジストモデル化の専門知識が社外に漏れることがないように、この先進のレジストモデル化基盤ARMIが開発されました。

○ PanTune(TM)でレジストモデルの合わせこみ
○ UWRM APIでご自身のレジストモデルの作成

PanTune(TM) チューナの特長

  • ○ シミュレーションした結果と測定結果を合わせこんでパラメータを見つけることで、ご自身のレジストモデルを較正します。
  • ○ どのようなレジストモデル(完全な物理モデル、拡散イメージモデル、化学増感モデル、パノラミックモデルなど)にも合わせこみが可能です。 検査装置などの他のシミュレーションも可能ですが、そのようには設計されていません。
  • ○ HyperLithの厳密マスクモデル(マスク3D効果)の全てのパワーを使うことで、スキャナーモデルへの現実的な合わせこみが出来ます。
  • ○ 実験データをファイルとして、又はカット/貼付けで簡単にインポートできます。
  • ○ 実験データ、シミュレーション結果両方に有効範囲を設定できます。
  • ○ SimRunner(ネットワーク/分散処理)で動作します。
  • ○ ユーザは結果に完全にアクセスできます。 暗号化した機密のレジストモデルパラメータではありません。
  • ○ レジストの合わせこみを社内で行うことにより、時間と費用が節約できます。

User-Written Resist Models (UWRM) ユーザ作成レジストモデルの特長

  • ○ ご自身のレジストモデルを社内で作成できます。
  • ○ 簡単且つ強力なJava(tm)での応用プログラミング(API)
  • ○ HyperLithやEM-Suite GUIで黄色のフィールドのノブとして表すことができます。
  • ○ Thinまたはthick、空間イメージ、レジストの中のイメージなどをベースとしたモデルが現像時間のレベル設定関数や現像速度を返すことで、HyperLithが開発をしてくれます。
  • ○ Panoramicが高度なサポート(コーディングの支援を含む)と豊富な例題を提供します。