RESISTの特長
- ○コアのHyperLithパッケージとEM-Suiteパッケージは、空中像の画像が積層された膜上に生成します。通常は、これで十分なのですが、レジストの効果を見るためレジストのモデルを作成することができます。 Resistオプションは、ユーザーがこれを行うためのいくつかの方法を提供しています。
- ○以下のレジストモデルがサポートされています：
Thresholded Resist Image Model（TRIM ）：「厚い」レジストモデルの中で最も簡単なモデルです。レジスト中の像強度は、単に一定値で閾値で処理されます。出力はz方向に有限の厚さを持ちます。（すなわち「厚い」レジストモデルです）
Diffused Image Model（拡散画像モデル）：「薄い」レジストモデルであり、拡散をモデル化するための畳み込みカーネルをいくつか選択できます。必要に応じて、ウェハ積層膜を使用することができます。
Panoramic Resist Model (PRM)：化学増幅型の「薄い」レジストモデルでレジストの高さはモデル化されない、必要に応じて積層膜と機械的収縮を使用することができます。単純なクエンチ－拡散－クエンチモデルがPEBとして使用されます。
Chemically Amplified Lumped Parameter model (CALPM)（化学増幅型集中定数モデル）：化学増幅型レジストの高速近似モデル。完全に整合した基板上の積層膜を仮定した「厚い」レジストモデルです。
Full physics model（完全物理モデル）：酸および塩基の拡散を制御するパラメータ、現像速度曲線などを含む完全な物理モデル 。既知のレジスト物理をできる限り多く取り込みます。これは積層膜の定義を必要とする「厚い」レジストモデルです。ポジ型の化学増幅型レジスト（CAR）をモデル化するように設計されていますが、非化学増幅型のレジストやネガ型レジストをシミュレートすることもできます。
UWRM - User Written Resist Model：ここをクリックしてください。
PSRM - Panoramic Stochastic Resist Model： - ○ソフトウェアには、一般的なレジストモデルのパラメータセットが付属しています。他社のシミュレータや実験データから得られたパラメータセットを使用する場合、Panoramic Techology社は無料でインポートするのを支援します。無料のレジスト調整サービスをご提供していますので、詳しくはお問い合わせください。
