パノラミックテクノロジー社の概要
1999年に設立されたパノラミックテクノロジー社は、先進的な半導体リソグラフィのためのシミュレーションソフトウェアを開発しており、世界中で販売しています。半導体業界内で、リソグラフィシミュレーション業界のマーケットリーダーとして豊富な経験を有しており、今後もリーダーとして期待されています。
ここの製品で、半導体リソグラフィの回路、マスクのモデリング、露光ツールとウェハー上レジストのシミュレーションを行うことができます。顧客は大小の半導体メーカー、機器ベンダー、研究機関、ベンチャーや大学などです。
パノラミックテクノロジー社は、最高のリソグラフィ研究用シミュレーションソフトウェアを最適な価格で提供し、非常にレスポンスの高い顧客サービスを提供することに徹しております。
ソフトウエアの特長
• マスク/ウェハー/一般なジオメトリックのための、強力で柔軟な3D厳密EMFソルバー（FDTD法、RCWA法）
• 世界で最も先進的なEUV CAレジストモデル-"奇妙な歪み"であるfooting and corner rounding biasをモデル化しています
• 広範囲に分散化/クラスタ化/ネットワーク化されたコンピューティング機能
• 全体データの可視化と後処理機能
• 強力なバッチ処理機能
• Phython / MATLAB / Octave/ JavaのAPI
• GDS-IIレイアウトとの統合（編集機能と高度な操作機能有り）
• 小面積のOPC（光近接効果補正、rigorous/scalarモデルに対応）
• 32/64ビットのWindowsおよびLinuxをサポート（すべてのOSを同様に完全サポート）
• ハードウェア加速処理されたFDTD計算（NVIDIA GPU）
• 使いやすいインターフェイスのHyperLith（TM）
• 多機能で安価な最高のシミュレーター！ （詳しくは、なぜ低価格で提供できるか？を参照）
パノラミックテクノロジー社マーケットリーダーとしての豊富な実績
1999：他社に先駆けFDTD EMソルバーの商用サービスを開始 （競合他社の数年前）
1999：他社に先駆けフルベクトルイメージングを提供 （競合他社の数年前）
1999：他社に先駆けEUVマスクのための厳密解シミュレータを提供 （競合他社の内の1社のほぼ9年前）
1999：他社に先駆けマスク/ウェハー検査用の厳密解シミュレーションを提供
2000：他社に先駆け非定数散乱係数をシミュレートする機能を提供
2000：非常に強力なバッチ処理機能を導入（式や変数を使用）
2001：他社に先駆け並列コンピューティングを提供（SimRunner） 2003：最初に64ビットのLinuxに対応
2003：他社に先駆けフル機能のGDS-IIレイアウト ビューア/エディタを提供
2003：最初に小面積OPCをベースとした正確なマスクモデルの研究用シミュレーターを提供
2004：最初に液浸と偏光を適切に対処
2007：最初にリソグラフィのための分散型FDTD法とAbbeイメージングコードを商用化
2007：最初のリソグラフィのためのFDTDハードウェアアクセラレーターを提供
2008：最初の3Dレジストモデルのハードウェアアクセラレーターを提供
2008：最初に64ビットWindows用のリソグラフィ•シミュレータを提供
2009：HyperLith！ 最初に使いやすく強力でありながら安価なシミュレーターを提供！
2010：最初にユーザが作成したレジストモデル使用の実現
2010：最初にEUVレジスト効果("strange distortion", footing, corner rounding bias)を考慮したモデルを提供
2010：最初に64ビット3D RCWAを提供
